산화+환원을 작용을 통해 상온에서 질소산화물(NOx)을 처리
반도체 공정에서 1차 처리 설비 후 배기 DUCT에 각각의 성상과 농도에 적합한 용량을 설치하여 부식성가스, 입자상 물질을 저감
반도체 공정에서 배출되는 PFCs Gas 분해 및 수용성, Powder, Mist등을 1차 처리하기 위함
